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전기도금 과정 조성물 및 침착물
Electroplating process composition and deposition

등록 : 2008.09.18 ⋅ 38회 인용

출처 : 한국특허, 1999-0067295, 한글 15 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 금은/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.07.26
1.25 ~1.55 % w/w 철, 1~2 ppm 지르코늄 및 97.7~98.2 % 금 Au 을 함유하고, NIHS 스케일로 3N 이하의 담황색을 띠는, 코발트, 카드뮴 및 니켈 비함유 전착을 제공한다
  • 무전해 니켈도금욕의 구성 ^ Electroless Nickel Plating Baths 고품질 무전해 니켈도금 제품을 생산하기 위해 고순도 약품의 사용은 필수적이다. 무전해니켈 도금액에는 니...
  • 연속식전기아연도금 라인에 있어서 횡형의 Jet Cell의 개발을 기존으로하여, 고전류밀도전해로 저전압조업이 가능한 고효율전해셀의 검토 및 보고서
  • 최근 여러 산업의 발전에 수반하여 도금의 수요도 많아진다. 각 공장도 설비증설을 행하고 있지만, 설비 확대로는 공장 면적과 비용 측면에서 여러 가지 문제가 많은 설비 ...
  • 도금 가공업자는 위탁가공(임가공)을 통해 매출을 확보하고 있는 곳이 중심으로, 고객의 생산동향에 대해 기민한 대응이 요구됨. 그러나, 실태를 보면 도금 가공업자의 대부...
  • 무선 송수신시 전파발생 및 수신부 최끝단에 장착되는 기구물로 Power 대비 송수신율의 효율을 극대화 하는 역할