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고속 SiC 에칭 기술
HIgh-rate SiC etching technology

등록 : 2008.09.24 ⋅ 127회 인용

출처 : 미쓰비시전기기보, 78권 6호 2004년, 일본어 1 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.09.16
고밀도 ECR 프라즈마 에칭장치와 만든 SiC에칭 특성에 관하여 기술 [高速SiCエッチング技術]
  • 염화제2구리 에칭 재생을 위한 공정 지침은 염화 제2구리의 금속 보유 용량을 본질적으로 무한하게 만들었으며, 이는 다른 반대를 극복하는 이점이다. 오늘날 염화구리는 세...
  • 배출한도 준수 물, 화학물질 소비감소 물 재사용 사용자 요금 방지 모니터링 비용절감 위험감소 무슨일이 일어나고 있는지에 대한 지식향상 제품품질 향상
  • DMP를 첨가한 무전해구리도금액의 구리전극에 의한 분극곡선을 측정하고, 외부 준극곡선의 캐소드 전류에 있어서 극대현상에 대한 첨가제의 영향에 관한 실험
  • 전해도금 전처리로서 치환도금 반응을 채용하는것을 염두해 두고, 니켈 Ni 소재에 대한 초음파 조사하에서 치환도금을 하여, 석출된 피막의 결정치밀화 반응시간 단축에...
  • 염산 · Hydrochloric acid 염화수소의 수용액으로 "염화수소산" 이라고도 한다. 강한 산으로 순수한 것은 무색이지만, 공업용의 것은 염화철을 함유하고 있어 황색을 띤다. ...