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3차원 패키징을 한 TSV의 다양한 Cu 충진 기술
Various Cu Filling Methods of TSV for Three Dimensional Packaging

등록 : 2018.01.15 ⋅ 13회 인용

출처 : KWJS, 31권 3호 2013년, 영어 6 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

노명훈1) 이형2) 김원3) 정재필4) 김형태5)

기타 :

TSV : through sillicon via . 실리콘 웨이퍼를 관통하는 미세홀을 형성하는 기술

자료 :

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분류 :
자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2018.01.15
TSV 충전에서의 다양한 변수들 중 기능성 박막과 도금공정에 의한 Cu 전해 도금을 자세히 소개
  • SMC의 실장공정에 최고로 중요한 고신뢰성 납땜접합을 목적으로 사용되는 전기주석, 납땜을 중심으로 설명
  • 높은 전류밀도에서 균일한 합금도금 타력을 보장하는 전기도금 셀을 개발하는 연구를 하였다. 양극길이, 전극 분리간격, 유체주입 및 제어와 같은 여러 설계 요소를 충분히 ...
  • 연마 ㆍ Polishing 재료의 표면을 평탄하게 유지하거나 광택을 만들거나, 재료를 다듬어 목적에 맞게 처리하여 다음 공정에 유리하게 하는 공정이다. 연마 작용은 연삭 작용...
  • 수용액에 Co, Ni 및 Mn 이온에 대한 착화제를 첨가하여 포화자화가 감소된 수직 자기 기록 매체를 안정적으로 제공할 수있는 무전해 도금욕을 얻는다.
  • 아연 전석욕 중에 철 및 무기 유기계의 불순물을 공존하여, 철 이외의 불순물이 철의 공석거동에 미치는 영향을 조사하였다. 철과 공존하는 무기계 불순물로서는 철 보다 귀...