안녕하세요.
저는 전자부품 회사에 근무하는 직원입니다. 무전해도금에 관련해 궁굼한 사항이 있어서 질문을 드립니다.
저희 회사는 Cupper에 Ni도금을 무전해방식으로 하고있습니다.
Ni의 도금두께를 측정하기 위해 저희 회사에서 있는 Micro Pineer XRF-2000L을 사용해 보았으나
저희가 예상한 두께인 1~1.5마이크로 미터가 아닌 0.012와 같은 터무니 없는 수치가 측정되었습니다.
제가 이 수치를 믿을 수 없는 이유는 0.012 마이크로미터가 맞다면 도금이 되지 않은 것 이므로 Cupper의 색이 육안으로 보일 것인데
현재 육안으로 봤을 때는 깨끗하게 Ni로 도금된 것 처럼 보입니다.
또한 같은 장비로 전해도금을 한 시편은 두께가 정상적으로 측정이 되어서 기계의 문제는 아닌 것으로 생각됩니다.
그렇다면 저희회사의 무전해도금두께를 어떻게 측정해야 할까요?
(SEM을 사용해 보았으나 시료를 만들 때 전처리 과정을 하면서 단면이 망가져 이미지를 얻지 못함)
시편의 두께은200마이크로미터 정도이고 도금두께는 양면 각각 1~1.8마이크로미터 입니다.
도와주세요 ㅜㅜ
지식이 짧은 학생입니다만 저희가 학교에서 실험을 하는데 무전해 도금으로 해서 도금 두께를 재야 할 일이 있어서 몇 번 해본적이 있습니다..
저희는 실험 공정상에서 선택적인 도금을 요하기 때문에 photolitho공정에서 PR을 사용하여 도금을 실시하고
도금이 끝나면 masking되어있는 PR을 제거하면 도금이 된 부분과 도금이 않된 부분이 나옵니다.
후에 a-step방식으로 단차를 측정하여 총 도금 두께를 측정하게 됩니다.
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