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전처리에 의한 실리콘표면에 형성된 금속나노노드 길이와 무전해도금막의 밀착성
Effect of Metal Nanolod Length on Adhesion of ELectrolessly Plated Film on Silicon

등록 : 2014.12.08 ⋅ 5회 인용

출처 : 표면기술, 54권 12호 2013년, 일어 3 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

前処理によりシリコン表面に形成された金属ナノロッドの長さと無電解めっき膜の密着性

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자료요약
카테고리 : 인쇄회로 | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2016.04.14
전처리후단의 Si나노공 형태의 조건을 제어하는 것으로, 금속나노로드의 길이와 밀착성의 관계에 관하여 조사
  • 부하 또는 온도 영향 받지만 내부 평형상태를 유지한다. 피막의 잔류응력은 특성에 악영향을 미칠 수 있다. 도금의 벗겨짐, 찢어짐 및 푸음이 생기는 원인이 될수있다. 도금...
  • 알루미나 96%를 습식으로 도금하였는데 핫플레이트상에 250도 정도에서는 견디나 그 이상이면 크게부풀어 올라 터지거나 밀착이 파괴됩니다. 공정으로는 불산으로 에칭(1시...
  • 전조된 강볼트를 아연 또는 Zn-Ni 합금도금을한후 크로메이트, 무전해도금, 열처리, 탑코팅방법을 추가하여 변화시킨후 습윤시험 및 염수분무시험을하여 백화발생 유무에 따...
  • 구연산을 착화제로하여 고 W 화를 목적으로 X선적구조 및 가열경화특성의 변화를 조성
  • 피로인산 ^ Pyrophosphoric Acid (H4P2O7) 이인산이라고도 하며 올소인산 (H3PO4) 을 200~300 ℃ 가열 탈수하면 축합인산이 생성된다. 이 축합인산의 일반식을 XH2O·YP2O5 으...