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전착에 의한 구리 기반 나노-탄화규소 SiC 피막 준비
Copper Based Nano-SiC Coating Prepared by Electrodeposition

등록 2020.09.03 ⋅ 26회 인용

출처 Plating and Finishing, 38권 11호 2016년, 중국어 4 쪽

분류 연구

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저자

기타

电沉积铜基纳米碳化硅复合镀层实验研究

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자료요약
카테고리 : 구리/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.02.09
구리-탄화규소 Cu-SiC 복합피막의 형태와 특성에 대한 전해질의 교반방법과 첨가제의 효과를 조사했다. 초음파 교반방법으로 Cu-SiC 복합피막은 부드럽고 치밀한게 되었다. 자석교반방법에 의한 피막의 비교는 초음파 방법에 의한 피막의 경도가 약 32 % 증가한 143 HV, 마찰손실은 33 % 에서 0.056 mg/mm2 로 감소하였다. ...
  • 양극산화 구조변화에 있어서 전압전류 제어의 영향을 해설하고, 전처리로 부터 전해연마, 후처리에 있어서 전해착색, 전착도장에 관하여 설명
  • 평활성 · Leveling 도금용 소지에 산재된 미세한 요철, 연마자국 등에 평활 (평탄) 작용을 하는 전기 도금욕의 능력을 말하며 보통 레벨링 이라고도 하며 대부분의 도금용 ...
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  • 6가크롬 도금공정의 대체를 위한 공정개발을 위해 기존의 6가크롬 도금공정을 소개하고 나아가 현재까지 제안된 3가크롬 공정을 소개하여 획기적인 3가크롬 도금공정의 확립...