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은-팔라듐 합금의 펄스 도금
Pulse Plating of Silver-Palladium Alloys

등록 : 2023.03.01 ⋅ 535회 인용

출처 : Plating and Surface Finishing, Jul 1989, 영어 7 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 금은/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.03.01
온타임이 0.1m sec 이고 평균 전류 밀도가 4 mA/cm2 인 200~400mA/cm2 의 펄스전류는 약 25% 의 팔라듐을 포함하는 밝고 매끄러운 은 합금을 전착하기 위한 최적의 펄스조건이었다. 펄스 도금에서 높은 과전압은 미세 입자 합금 전착물의 형성에 효과적인 것으로 보였다.
  • 억제제의 표면화학을 연구하였으며, 구리 착화를 형성하는 다양한 억제제를 비교하기 위해 사용되어 왔다. 실험실의 테스트에는 온도 및 침지시간과 관련하여 최상의 코팅방...
  • 전석과정 결정화 과정의 in-situ 로서, SPM 을 이용한 형태관찰과 X선회절을 이용한 구조해석에 관하여 종래의 보고를 평가하는 동시에 금후의 전망에 관하여서도 해설
  • 팔라듐의 무전해도금에 관하여 기초적 검토를 하고, 무전해도금에는 표면 활성화 처리하여 도금하는 지지체의 표면에 환원반응의 촉매인 팔라듐핵의 침지가 필요하다. 여기...
  • 도금 거칠기 방지는 아마도 도금용액을 여과하는 가장 중요한 이유일 것이다. 깨끗한 도금액을 사용하면 연소 가능성이 적고 커버력이 높아진다. 부유고형물 이외에도 작업...
  • 비활성 염을 선택적으로 제거할수 있는지 확인하기 위해 주석-아연 및 니켈-텅스텐 욕의 두가지 이원 도금용액을 조사하였다.