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할로겐 및 메탄설폰산 전기주석 공정의 비교 연구
A Comparative Study of Halogen & Methanesulfonic Acid Electrotinning Processes

등록 2023.12.30 ⋅ 89회 인용

출처 PLATING & SURFACE FINISHING, Jul 1999, 영어 9 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 석납/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.12.30
전형적인 할로겐 및 메탄설폰산 (MSA) 기반 전기 주석 도금공정의 특성을 연구하였다. MSA 주석욕의 이온이 산화율이 낮고 매우 안정적이지만 철강 소재에 대힌 부식성이 높음을 보여주었다. 회전 실린더 음극을 사용하여 속도 및 전류 밀도와 같은 작동 조건이 도금 효율, 피막 형태 및 결정 방향에 미치는 영향을 조사...
  • 고전류밀도에서 탄산칼륨 첨가를 개별적으로 첨가하였을 때 첨가량에 따른 초기 분극 현상에 대한 연구를 실시한 후, 광택제, 평활제를 복합적으로 첨가 하여 전착층의 ...
  • 산성 전해 탈지 탈청제 ^ Electrolytic Acid cleaner 산성 용액을 주용액으로 하여 전해 탈지 탈청하는 방법으로, 황산을 주로 이용하며, 약간의 [이온봉쇄제] · [계면활성...
  • 전자장치의 금속화 및 연결에 사용되는 도금기술에 중점을 둘것이다. 금속화에서는 반도체 및 PCB용 구리도금에 의한 배선형성, 특히 첨가제에 중점을 두고, 구리 전기도금...
  • 글리콜산 · Glycolic Acid ^ Hydroxy Acetic Acid 글리콜산은 금속 표면의 녹·스케일 및 산화물을 제거하는 부식성이 낮은 산으로 산과 알코올 역할을 하는 이중 기능을 가...
  • 철족금속 철 Fe 및 코발트 Co와 이원 CoFe 합금의 박막은 산성 황산염 전해질에서 구리 회전디스크 전극으로 실험하였다. 전해질에 유기첨가제를 사용하여 전착에 의해 박막...