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무전해 공정에 의한 실리콘의 표면 처리 및 고감도 레이저 분석에의 응용
Surface Treatment of Silicon by Electroless Processes and Application to Sensitive Laser Analysis

등록 : 2024.08.11 ⋅ 14회 인용

출처 : 표면기술, 76권 2호 2024년, 일본어 7 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

無電解プロセスによるシリコンの表面処理 と高感度レーザー分析への応用

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자료요약
카테고리 : 무전해도금통합 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2024.08.11
Si 웨이퍼를 HF 용액 중에서 애노드 분극하면, 전해 연마가 일어나는 전위보다 비극한 전위로 Si 표면에 다공성층이 형성된다. 다공성 Si의 새로운 제작 방법으로서 금속 원용 에칭 방법에서는 귀금속 촉매를 수식한 Si 를 과산화수소(H2O2) 등의 산화제를 포함하는 HF 용액으로 다공성 Si를 제작할 수 있다. 용액 조성이나 ...

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