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무전해 Ni-P 도금의 배럴 도금 공정 최적화
Optimization of barrel plating process for electroless Ni–P plating

등록 2025.10.06 ⋅ 58회 인용

출처 Ind. Eng. Chem., 20호 2014년, 영어 8 쪽

분류 연구

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Industrial and Engineering Chemistry

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2025.10.17
무전해 Ni-P 도금욕의 특성을 분석하기 위해 황산니켈(NiSO4)과 차아인산소다(NaH2PO2)의 농도를 변화하며 도금을 하였다. 도그 두께는 NiSO4와 NaH2PO2의 농도에 따라 증가하였으며, 최적 농도는 NiSO4 27.0g/L, NaH2PO2 24.0g/L 이었다. 도금 두께는 pH 4까지는 두꺼웠지만 그 이후로는 감소하였고, 두께의 편차는 pH 4까...
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  • 규산염을 사용하여 아연소재를 보호하는 새로운 방법은 크롬 부동태 공정이 유망한 대안으로 탐구되다. 규산염 층은 PQ 용액과 물을 포함하는 도금액에서 음극에 도금되었다...
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  • - produces bright, compact and high levelled tin deposits - for plating of parts coming from the electronic industry, the printing and the semi conductive techin...
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