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1997년도 개발 기술 : 무기 금속 표면 처리, 공정과 기구
Technical development 1997 : Inorganic metallic finishers processes and equipment
자료
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자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : 무대뽀 | 최종수정일 : 2022.02.11
금속표면처리 1997년 2월호에 게재된 1996년 저자 리뷰 경쟁이후 현장에서의 발전을 다루었다. 1997년도의 도금관련 개발된 자료
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전석법으로 보다 높은 아스펙비를 가진 프로브의 제작을 가능하게하기 위하여, 액중의 유기첨가제를 사용한 전석 Ni 마이크로프로브를 만들고, 첨가제가 프로브의 제작을 가...
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장식 니켈 - 크롬 공정에서 양극에 티타늄 바스켓을 사용하는 와트욕에서는 니켈 농도의 감소가 거의 없기 때문에 저농도화가 어려웠다. 그러나 양극에 티타늄 바스켓을 사...
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V-mark 불량이 보는 각도(빞의 반사각도)에 따라 발생유뮤가 변하는것에 착안하여 소재표면의 미세한 결함으로 야기되는 도금결정의 크기와 방향등이 정상부와의 차이를 보...
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HF-NH4F 버퍼용액에서 CuCl2-HNO3 화학을 사용하는 산성기반 무전해 구리 Cu 도금 시스템을 설명하였다. 질산의 도움으로 Cu 시드 레이어를 삽입하지 않고도 SiO2 / Ta / Ta...
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전기도금 공정으로 제조된 니켈-코발트 Ni-Co 필름의 특성들을 연구하기 위하여 도금용액 내의 니켈 Ni 과 코발트 Co 함량을 각각 0.711 M 과 0.840 M 로 높이고, 도금온도 ...