어떠한 목적으로 이용하시려는지 모르지만, 무전해 도금은 현재까지 그 특성상 저온고속 방법은 어렵습니다. 특히 무전해 구리도금에 있어서 저온으로 고속 두께 도금하는 방법은 액의 분해로 거이 불가능 합니다(현재까지 저속으로는 가능~ 시간이 엄청 걸리고 중간중간 액분해로 여과도 해야하고~~ 복잡합니다~)..
고속도금하는 방법으로는 액중 금속촉매(예로, 티타늄, 코발트등)를 보조 환원제로 이용하면 고속작업은 가능하나, 액이 쉽게 분해되고, 석출된 구리 입자 또한 크고 거칠게되어 저항성이 증가하게 됩니다.
여러가지 방법으로 중저온(30도 부근)에서는 실험된 결과와, 판매되고 있는 상품으로 10미크론 내외의 도금은 가능하나, 위에 말씀드린것 처럼 석출 입자가 크게되어 입자사이의 빈공간(갭)이 많아 전류를 흘리거나 유전도 실험에서 크게되어 터지는 경우도 발생하여, 특별한경우 외는 현재 저온고속욕은 이용되지 않고 있습니다.
유전손실을 최소화하고 품질이 인정된 무전해도금은 현재 40도 부근의 도금액이 현실적으로 이용되고 있습니다.
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