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  • 고온 (40ºC) 작업 특성이 매우 우수합니다. 레베링과 광택이 저전류 범위까지 우수합니다. 광택제 분해가 적어 활성탄 여과 기간을 길게 할수 있습니다. 염료의 ...

수정 염화아연 도금욕

Zinc Chloride Plating baths

 

염화아연욕은 초기에 있어서, 현재 사용되고 있는 액전압보다 높은 농도의 욕이 사용되고 있었으며, 균일전착성이 극히 나쁘게 되어, 최근에는 음극전류효율을 약한 의성으로 하여, 균일전착성을 중시하는 저아연농도의 염화욕이 사용되고 있다.

 

금속아연

금속아연의 농도는 높은 쪽이 음극 전류효율을 100% 가까이 향상할 수 있으나, 균일전착성이 나쁘게 된다. 다만 아연농도를 높히면 고전류밀도 부의 타는 현상을 광택제가 억제하기 곤란한 점도 있어 강력한 억제력을 필요로 한다.

 

전염소

염화욕에 있어서 염소의 작용은 욕중의 균일전착성과 통전성에 깊은 관계가 있어, 징케이트 욕중의 가성소다와 유사한 역할을 한다. 일반적으로 욕중의 전염소가 증가하면 음극 전류효율은 낮아지나, 균일전착성이 좋게 되는 금속아연과 반대로 작용한다.

 

pH

염화욕의 도금액을 투명하게 유지하며, 액중의 금속 아연농도를 일정하게 하기 위하여 액의 ㏗ 를 5.5~6.2 로 유지할 필요가 있다. ㏗ 의 조정은 염산 또는 염화암모늄을 사용한다.

 

 
금속아연과 전염소, pH와의 관계

 

 

수정 도금욕의 조성

 

 
암모늄욕 (표준범위)
 
칼륨욕
 
암모늄-칼륨욕 (표준범위)

 

암모늄욕의 작업조건과 영향

 

  변화 광택 균일전착성 전류효율 반점(바렐) 액혼탁
금속아연

증가

전염소 증가
1차광택제 증가
2차광택제 증가
온도 증가
pH 증가

↑: 향상,증가 / ↓:감소,저하 / ↔:변화없슴

 

 

수정 참고