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수정 무전해니켈 히드라진욕
^ Hydrazine Type Electroless Nickel Bath
무전해도금욕에서의 히드라진을 환원제로 사용한 도금액 석출반응은
N2H2 + 4OH- → N2 + 4H2O + 4e-
N2H2 + 2OH- → N2 + 4 H2O + H2 ↑ 2e-
환원제로는 염산히드라진 이나 황산히드라진 이 이용되고 있으나, 그 반응은 굉장히 복잡하다. 무전해니켈 도금욕중의 히드라진의 산화반응은 차아인산염이나 DMAB을 환원제로한 무전해니켈도금과 는 달리 반응중에 수소 까스가 발생하지 않는다.
도금욕의 ㏗ 가 높게 되면, 산화환원 전위는 (+) 로 되므로, 환원력을 강하게 하기 위하여 강알칼리성을 사용한다. 환원제의 산화반응에 따라 액의 ㏗ 가 낮아지면, 석출속도도 서서히 낮아지므로, 알칼리욕에 효과가 있는 완충제 및 니켈을 착형성하는 착화제를 선택하여 사용한다. 도금피막의 조성은 거의 니켈이다.
도금욕 조성 |1|
0.05 ㏖/L NiCl2·6H2O
0.40 ㏖/L H2NNH2·H2O
0.30 ㏖/L Glycine0.50 mol/L H3BO3
㏗ 12 (with KOH and HCI)
- 온도 80~90 ℃
- 도금시간 60 분, 3 ㎛
- Scale 0.1 dm3
착화제
- 카복실산계
호박산ㆍ마론산ㆍ마레익산
- 히드록시카르본산계
젖산ㆍDL-사과산ㆍ구연산ㆍ주석산ㆍ글루콘산
- 아미노산계
글리신ㆍEDTA
- 아민계
에틸렌디아민
수정 참고
보충자료
- ^ '~using hydrazine reducing agent~', 표면기술 51권 6호 2000년