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음이온의 조합을 통한 저전압 전기도금 공정에서 높은 니켈 석출
High Nickel Deposition at Low Voltage Electroplating Process by a Combination of Anions

등록 2023.09.15 ⋅ 61회 인용

출처 JAMT, 15권 3호 2021년, 영어 14 쪽

분류 연구

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Journal of Advanced Manufacturing Technology (JAMT)

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2025.06.07
니켈의 황산염 음이온 (SO42-) 조합과 염화물(Chloride Cl) 의 조합에 따른 영향을 연구하였다. 니켈 전기도금은 시편 표면을 화학적으로 세척한 후 특정 전류밀도 하에서 니켈 용액에 니켈을 석출시킨 후 수세를 하였다. 황산니켈욕에 대한 니켈욕은 황산염과 염화물 음이온으로 구성되어 있다. 황산염 용액에 염화물 음이...
  • 스텐리스의 스케일 제거방법과 제거후 기름얼룩대책에 관한 처리방법과 조건을 알려 주시기 바랍니다.
  • 구리-인듐-세렌 Cu In Se2 (CIS) 박막은 수용액에서 펄스도금 전착을 사용하여 몰리브덴 소재를 준비하였다. 공동도금에 가장 적합한 펄스전위 범위는 선형전위 스캔곡선에...
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