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음이온의 조합을 통한 저전압 전기도금 공정에서 높은 니켈 석출
High Nickel Deposition at Low Voltage Electroplating Process by a Combination of Anions

등록 : 2023.09.15 ⋅ 37회 인용

출처 : , 15권 3호 2021년, 영어 14 쪽

분류 : 연구

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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2023.11.10
황산염의 니켈 음이온 조합 (SO42-) 과 염화물(Chloride Cl) 의 조합에 따른 영향을 연구하였다. 니켈 전기도금은 시편 표면을 화학적으로 세척한 후 특정 전류밀도 하에서 니켈 용액에 니켈을 석출시킨 후 잔여 용액을 제거하기 위한 수세를 하였다. 황산니켈 용액에 대한 니켈욕은 황산염과 염화물 음이온으로 구성되어 있...
  • 붕수소화물 또는 보란계 도금욕의 문제점과, 현재까지 그것이 어떻게 개량되고 있는가를 설명하고, 그외의 화합물을 환원제로하는 것에 대한 설명과, 무전해도금법에 의한 ...
  • 표준 사전트욕을 기본으로한 크롬산 욕액에서 석출된 hcp 형 및 fcc 형 석출물의 전석조건에 관하여 검토하였고, 전류효율, 전착면의 외관 및 격자정수를 조사항고, hcp 형...
  • 도금피막의 균일성이 좋고 작업성 유지보수성을 포함한 저비용화가 기대되고, 높은 생산성을 가진, 불용성 양극을 사용하기 위한 실용성에 관한 검토
  • 무전해도금에 사용되는 한원제로는 차아인산소다, DMAB, 수산화붕소소다, 히드라진, 포르마린, 기산등이 있으며, 중금속 이온과 조합하면 특징적인 피막을 만들수 있다.
  • 전자제품 제조의 혁신은 때때로 어지러운 속도로 올수 있다. 현대의 전자 하드웨어 응용 프로그램이 종종 개별 구성 요소의 기술을 능가한다는 사실을 인식하려면 전자 하드...