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습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...
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DMSO의 인듐(III) 메탄설포네이트로부터 인듐 전착
인듐의 전기화학적 거동과 전착을 메탄설포네이트 인듐(III) 과 디메틸설폭사이드(DMSO)로 구성된 용액으로부터 26 ℃ 와 160 ℃ 에서 실험하였다. 인듐(III) 메탄설포네이트는 인듐(III) 산화물과 메탄설폰산 (MSA) 으로부터 합성하였다. 순환 전압전류법, 석영 결정 미세 천칭 측정 및 회전 링 디스크 ...
전기도금기타
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Phys. Chem. Chem. Phys. · 22호 2022년 · Wouter Monnens ·
Clio Deferm
외 ..
참조 9회
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할로겐 및 메탄설폰산 전기주석 공정의 비교 연구
전형적인 할로겐 및 메탄설폰산 ( MSA) 기반 전기 주석 도금공정의 특성을 연구하였다. MSA 주석욕의 이온이 산화율이 낮고 매우 안정적이지만 철강 소재에 대힌 부식성이 높음을 보여주었다. 회전 실린더 음극을 사용하여 속도 및 전류 밀도와 같은 작동 조건이 도금 효율, 피막 형태 및 결정 방향...
석납/합금
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PLATING & SURFACE FINISHING · Jul 1999 · Yung-Herng Yau ·
참조 19회
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메탄설폰산욕에서 주석(II)의 산화와 미량 염화물의 역할
메탄설폰산주석(II) Sn(CH3SO3)2 욕은 공업용 메탄설폰산 CH3SO3H(MSA) 또는 황산등의 전해질 보충 또는 보충 중에 사용되는 불순한 물에서 발생하는 소량의 염화물 Cl- 를 함유할 수 있다. Sn(CH3SO3)2 전해질을 사용할 때 자주 발생하는 문제는 제2주석 슬러지의 형성이다. 산화 방지제가 Sn(IV) 형성...
석납/합금
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Plating & Surface Finishing · Nov 2004 · Nicholas M. Martyak ·
참조 65회
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높은 기술적 성능과 상당한 비용 절감 이점을 결합한 혁신적인 주석 공정.
새로운 순수 주석 MSA 공정인 Niveostan ™ 은 뛰어난 기술 성능과 상당한 비용 절감 이점을 위해 UV로 쉽게 분석할 수 있는 단일 첨가제를 기반으로 개발되었다. 첨가제는 Sn(IV) 형성을 억제하는 산화 방지제가 포함되었다. Niveostan ™* 전착은 부드러운 형태와 큰 결정 입자로 인해 다른 공정에서 제...
석납/합금
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Atotech Deutschland · · Olaf Kurtz ·
Peter Kühlkamp
외 ..
참조 87회
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메조스케일 TSV에 있어서 상향식 구리 충전을 위한 단일 첨가제 전해질을 사용한 정전류 도금
단일 억제 첨가제가 포함된 메탄설폰산 (MSA) 전해질은 TSV (실리콘 비아)를 통해 중간 규모의 구리를 정전위 상향식 충전에 사용했다. 반대로 정전류 전착은 일반적으로 정전위 도금에 필요한 기준 전극이 장착되어 있지 않기 때문에 생산 수준의 전체 웨이퍼 도금 도구에 바람직하다. 전위차 전착은 ...
구리/합금
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Electrochemical Society · 166권 1호 2019년 · L. A. Menk ·
E. Baca
외 ..
참조 14회
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