로그인

검색

1. 습식도금기술과 관련된 기술을 정리한 노트로, 책을 보듯 그대로 읽으면서 링크를 클릭하면 됩니다.
2. 노트의 자료와 데이타는 실험과 연구 목적으로 이용하여 주십시요. 자료에 대한 어떠한 보증도 없습니다.
3. 잘못된 정보 또는 수정 항목을 알려주시면 POINT를 드립니다.

 
마크 표기 안내


  • 고온 (40ºC) 작업 특성이 매우 우수합니다. 레베링과 광택이 저전류 범위까지 우수합니다. 광택제 분해가 적어 활성탄 여과 기간을 길게 할수 있습니다. 염료의 ...

수정 인산염 피막의 측정

^ Phosphating Coating Thickness Measurment|1|

 

인산염 피막형성의 피복성을 전기화학적인 방법으로 단시간에 평가하는 방법이 개발되었다. 아래 그림과 같이 인산염 처리욕으로부터 차레로 꺼낸 강판을 전기분해액인 붕산염 완충액으로 옮겨, 사이클릭볼타메트릭법 (CVS) 으로 전위-전류곡선을 측정한다.

 

모두 다 전류치는 화성처리 시간과 함께 감소하지만 이것은 원 철표면의 면적이 감소하여, 인산염 결정에 의한 피복이 진행되고 있음을 나타낸다. 1800초 뒤의 전류치가 증가하는 것은, 피복이 완성후에 결정의 핀홀부로 하지의 용해가 시작되었다는 의미이다.

 

인산염 처리액의 조성과 조건

12.5 g/l H3PO4

1.3 g/l ZnO

3.0 g/l NaNO3
0.1 g/l NaNO2
pH 2.8 (가성소다로 조정)

  • 처리온도 65 ℃, 10~90 초

인산염처리 강판의 전위-전류 곡선의 예

(dE/dt=100 mV/s、t=60, 180, 600s、65℃)

260402001.gif

  • 볼타노그람에서 얻은 철산화피막 생성전류(iox)와 환원전류(ired)

 

전위-전류곡선으로 부터 얻은 iox 와 ired 와 화성처리 시간과의 관계

260402002.gif

  • 화성처리시간

인산염 결정의 생성모델 그림 및 화성처리 시간의 평균 자유표면(A/A0)의 변화

260402003.gif

  • 원 강판의 전류치를 기준으로 각전류치의 비율이 강판의 표면적 (A/A0) 에 대응하는것
  • 이 수치가 1/2 이 될때의 값이 화성처리의 유효한 평가 판단치가 될수 있다.

 

수정 참고

 

수정 보충자료

  1. ^ 「A new electrochemical method for the determination of the free surface of phosphate layers」,「Appl.Surf.Sci.52,29」 (1991年), A.Losch,J.W.Schultze、Elsevier Science Publishers B.V.발행