1. 습식도금기술과 관련된 기술을 정리한 노트로, 책을 보듯 그대로 읽으면서 링크를 클릭하면 됩니다.
2. 노트의 자료와 데이타는 실험과 연구 목적으로 이용하여 주십시요. 자료에 대한 어떠한 보증도 없습니다.
3. 잘못된 정보 또는 수정 항목을 알려주시면 POINT를 드립니다.
마크 표기 안내
'툴팁' 아이콘 및 설명 (''툴팁' 글에 마우스를 올려보세요)
무전해코발트도금-
고온 (40ºC) 작업 특성이 매우 우수합니다. 레베링과 광택이 저전류 범위까지 우수합니다. 광택제 분해가 적어 활성탄 여과 기간을 길게 할수 있습니다. 염료의 ...
목차...
수정 무전해 코발트 도금
^ Electorless Cobalt Alloy Plating
무전해 코발트도금|1|
자성 도금용으로 전자산업의 Memory Disk 와 Storage Device에 사용
30 g/l Cobalt Chloride
20 g/l Sodium hypophosphite
35 g/l Sodium Citrate
50 g/l Ammonium Chloride
㏗ 9.5
- 온도 95 ℃
무전해 코발트 합금도금
자성막 도금으로 개발되었으며, 코발트-텅스텐-인합금ㆍ코발트-니켈-망간-레늄-인합금 등이 있다.
코발트-철-인합금의 욕조성
0.089 ㏖/l Coblat Sulfate
0.73 ㏖/l Ammonium iron sulfate
0.303 ㏖/l Ammonium Sulfate
0.95 ㏖/l Sodium Citrate
0.377 ㏖/l Sodium Hypophosphite
㏗ 8.1
- 온도 80 ℃
수정 참고
보충자료
- ^ James R. HENRY, Electroless (Autocatalystic) Plating
