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수정 실리콘 소재의 전기도금

^ Electroplating on Silicon Substrate

 

 

일반적인 도금 공정

1. 용제탈지

2. 알칼리 침지탈지

3. 에칭 처리

45 vol % 질산 (70 %)

15 vol % 불산 (55 %)

40 vol % 물

4. 산침지 (농불산)

5. 무전해 니켈도금 (알칼리욕)

 

다른 방법

1. 용제탈지

2. 알칼리 침지탈지

3. 전기 니켈도금

120 g/l 염기성 탄산니켈

30 g/l 구연산

70 ml/l 불산

50~60 ℃, 1 분간 침지 후

3~10 A/dm2 로 전기도금 (음극 요동)

 

수정 참고