Aveni S.A는 5nm 이하 BELO 공정에서 염기성구리도금화학물질을 이용한 구리배선으로 5나노대의 기존 산성욕보다 우수한것이 입증되었고, 내년초 결과를 발표할것이라고 한다..
자세히보기 : http://www.internews.kr/news/articleView.html?idxno=14460
BELO : Back end of line 웨이포프로세스에서 반도체소자를 외부와 연결하기위한 회로배선 공정
| 년월호 | 아베니 |
|---|---|
| 연결 | http://PCB |
Aveni S.A는 5nm 이하 BELO 공정에서 염기성구리도금화학물질을 이용한 구리배선으로 5나노대의 기존 산성욕보다 우수한것이 입증되었고, 내년초 결과를 발표할것이라고 한다..
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BELO : Back end of line 웨이포프로세스에서 반도체소자를 외부와 연결하기위한 회로배선 공정