수정 전해연마 ㆍ Electropolishing
연마를 필요로하는 금속을 양극으로하여 전기를 가하면, 고전류 부분 (돌출부) 을 우선적으로 용해하여 연마효과를 만드는 방법이다. 연마되는 면의 금속조직·결정구조와 연마조건에 따라 피트등이 발생할 수도 있다. 알루미늄 반사판, 주사바늘, 반도체표면가공, 불순물 제거 등의 목적에도 이용된다.
전해연마의 장단점
- 형상이 복잡한 부품의 다듬질에 적당함
- 내식성이 향상된다
- 반사율이 높아진다
전해연마제 조성
수정 전해연마 조성과 작업
방법 1
15 % Sodium carbonate
5 % Trisodium phosphate
80 % Water
- 온도 74~88 ℃
- 전류밀도 5.0-6.0 A/dm2
방법 2
50-75 % Phosphoric acid
0-10 % Sulfuric Acid
5-20 % Chromic Acid
Balance Water
- 온도 65~95 ℃
- 전압 10~18 V
- 전류밀도 5.0~20.0 A/dm2
75~84 % Phosphoric acid
0~15 % Chromic acid
Water Balance
- 온도 40-70 ℃
- 전압 12~18 V
- 전류밀도 10.0~30.0 A/dm2
15~70 % Phosphoric acid
15~60 % Sulfuric acid
0~2.5 % Hydrochloric acid
Balance Water
방법 1
30-65 % Phosphoric acid
15-55 % Sulfuric acid
2.5-15 % Organic additives
Balance Water
- 온도 45~80 ℃
- 전압 6~18 V
- 전류일도 5.0~50.0 A/dm2
방법 2
0-40 % Phosphoric acid
15-55 % Sulfuric acid
10-30 % Glycolic acid
Balance Water
- 온도 45~85 ℃
- 전압 6~18 V
- 전류밀도 5.0~50.0 A/dm2
45-75 % Phosphoric acid
5-40 % Sulfuric acid
0-12 % Chromic acid
Balance Water
- 온도 45~60 ℃
- 전압 10~18 V
- 전류밀도 10.0~30.0 A/dm2
방법 1
6 % Hydrofluoric acid
88 % Ethylene Glycol
6 % Water
- 온도 25~40 ℃
- 전류밀도 8.0~10.0 A/dm2
방법 2
10 % Hydrofluoric acid
40 % Chromic acid
Balance Water
- 온도 15~20 ℃
- 전압 3~7 V
- 전류밀도 20.0~50.0 A/dm2
수정 전해연마 불량대책
- 제품 표면상태 불량
⇒ 소재 및 전처리 상태 확인
- 욕에 물 비중이 많다
⇒ 물보충을 중단한다
- 가열 또는 냉각장치의 누수 확인
⇒ 제품표면의 가스가 제거되지 않는다
⇒ 액 교반 개선/ 라크의 위치 수정
- 전해연마욕의 발란스 불량
⇒ 분석후 수정
- 금속 함량이 높다
⇒ 액의 일부를 희석
- 전류밀도가 낮다
⇒ 전압 및 전류밀도를 더 높게한다
- 랙의 접촉 불량 및 위치 개선
⇒ 부스바의 연결 또는 접속을 확인
⇒ 라크의 접점확인
- 수세불량
⇒ 수세방법과 주기 개선
⇒ 필요하면 중화처리
- 라크이송 시간이 길다
⇒ 대기 또는 방치시간 개선
- 침전 금속분 존재와 석출
⇒ 불순물 출처 차단 및 석출 제거
- 액중 금속함량 과대
⇒ 전처리에서 용해물질 차단
- 가스 포켓 및 가스 배출 불량
⇒ 랙의 제품 위치 변경
⇒ 액의 교반을 증가
⇒ 전압을 낮게한다.