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습식도금재료 : 카타록/TDS 정보

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  MICROFAB® NI 100
반도체공정용 설파민산 니켈
등록 : 2020.10.28 ⋅ 137회 인용
제조 : Enthone
용도 : 설파민산욕
목적 : 반도체용
특성 :
기타 :
자료 :
  • ※ 자료가 없는경우 관련사이트를 참조하여, Web에서 검색하십시요.
분류 :

자료요약
카테고리 : 니켈도금 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.09.05
MICROFAB NI 100은 설파민산니켈용 전기도금으로 고순도 연성 미세입자 무광 저응력이 필요한 반도체 공정용 약품이다.