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[ 도금기술노트 ] 습식도금과 표면처리 연구노트 / Wet Plating Data Note

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텅스텐합금도금

조회 수 310 ⋅ 화양별곡 마지막수정 2024.09.09
텅스텐합금도금

수정 니켈-텅스텐-인 삼원 합금도금

^ Ni-W-P Ternary Alloy Electroplating

 

 

도금욕 조성 1|1|

0.18 ㏖/L NiSO4·6H2O (Nickel Sulfate)

0.15 ㏖/LNa2WO4 ​​​​(​​​Sodium Tungsten)

0.6 ㏖/L Sodium Phosphite

0.1 ㏖/L Sodium Citrate

0.05 ㏖/L C6H8O7 (Citric Acid)

  • 전류밀도 1~5 A/dm2

 

도금욕 조성 2

12 g/L NiSO4·6H2O
60 g/L Na2WO4·2H2O
10 g/L H3PO4 (85 %)
40 g/L Na4P2O7·10H2O
0~20 g/L NН3·Н2O (25~28 %)
5~40 g/L Н3РО3
0.4 g/L C4H6O2

  • 온도 40 ℃, 전류밀도 8 A/dm2

 

수정 니켈-텅스텐 합금도금

 

 

수정 참고

 

 

 

보충자료
  1. ^ 'Deposition Ni-W-P ~~Saline Water', J. Electrochem. Sci., 16 (2021)