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텅스텐합금도금-
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수정 니켈-텅스텐-인 삼원 합금도금
^ Ni-W-P Ternary Alloy Electroplating
도금욕 조성 1|1|
0.18 ㏖/L NiSO4·6H2O (Nickel Sulfate)
0.15 ㏖/LNa2WO4 (Sodium Tungsten)
0.6 ㏖/L Sodium Phosphite
0.1 ㏖/L Sodium Citrate
0.05 ㏖/L C6H8O7 (Citric Acid)
- 전류밀도 1~5 A/dm2
도금욕 조성 2
12 g/L NiSO4·6H2O
60 g/L Na2WO4·2H2O
10 g/L H3PO4 (85 %)
40 g/L Na4P2O7·10H2O
0~20 g/L NН3·Н2O (25~28 %)
5~40 g/L Н3РО3
0.4 g/L C4H6O2
- 온도 40 ℃, 전류밀도 8 A/dm2
수정 니켈-텅스텐 합금도금
수정 참고
보충자료
- ^ 'Deposition Ni-W-P ~~Saline Water', J. Electrochem. Sci., 16 (2021)
'텅스텐합금도금' 관련 용어
