수정 주석도금 첨가제

^ Intermediate of Tin Plating

산성 도금욕은 Wetter 로 비극성의 옥틸페놀 (Octylpenol), 노닐 페놀 EO (Nonyl Phenol EO) 등의 축합물이 사용된다. Carrier 로 크레졸, 나프톨 설폰산 등이 사용되며 Brightenet 로는 OCB, BAR 등이 사용된다.

• Benylidene Aceton
• Chlorobenzaldehyde
• Sodium Benzoic Acid
• Tamol NN 9104
• Cinnamic Acid
• PEG 4000~6000
• Mercaptobenzothiazole
• Sodium Gluconate
• Thiourea
• Glycine
• Kitosan
• Sodium dodecyle Sulfonic Acid

수정 주석도금 첨가제의 역할

입자 크기와 거칠기를 감소시킨다.

• 벤잘아세톤 ⌬-CH = CHCOCH₃
• C₁₈H₃₇N 〔(CH₂CH₂O)₄ H〕₂

첨가제 농도가 증가함에 따라 입자 미세화 효과를 유도하며 주석 이온의 감소를 억제한다.

• 벤조페논 ⌬-CO = C₆H₅
• 벤잘아세톤 ⌬-CH = CHCOCH₃
• C₁₈H₃₇N 〔CH₂CH₂OH〕₂
• C₁₈H₃₇N >〔(CH₂CH₂O)₄ H〕₂
• C₁₈H₃₇N 〔(CH₂CH₂O)₁₀ H〕₂

부드러운 광택 전착을 위해 전착에 영향을 주며 전극 표면에 첨가제가 흡착된다.

• Igepal CA 520 / DM 970
• Triton X-100
• Polyethylene glycol (PEG)
• Polypropylene glycol (PPG)
• Phenolphthalein

• Ethoxylated α-naphthol sulfonic acid (ENSA)

전류 밀도 확산

• Benzaldehyde
• Acetophenone
• 4-methyl 2-pentone

전하 이동을 좋게하고 방해물질을 알코올로 환원

• Formaldehyde
• Propionaldehyde
• Benzaldehyde

전착중 첨가제 흡착 및 탈착에 영향

• Syntanol
• Formaldehyde
• Benzyl alcohol

• Gelatin

• Triton X-100
• Phenyl-2-butenalimine
• Formaldehyde

• Sodium sulphite(s)
  (2Na₂SO₃ + O₂ = 2Na₂SO₄) 〔7.9〕
• Hydrazine(l)
  (N₂H₄ + O₂ = 2H₂O + N₂) 〔1.0〕
• Carbohydrazide(l)
  (H₆N₄CO + 2O₂ = CO₂ +2N₂ + 3H₂O) 〔1.4〕
• Methylethylketoxime(l)
  (H₂C₄=N-OH)CH₂CH₃ + O₂ = 2H₃C(C=O)CH₃CH₃ + N₂O + H₂O) 〔5.4〕
• Hydroquinone(s)
  (2C₆H₄(OH)₂ + 2O₂ = 2C₆H4O₂ + 2H₂O) 〔6.9〕
• Diethylhydroxylamine(l)
  (4(CH₅CH₂)₂NOH + 9O₂ = 8CH₃COOH + 2N₂ + 14H₂O) 〔1.2〕

수정 참고

주석 광택제 조성 (KW)