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수정 주석도금 첨가제

^ Intermediate of Tin Plating

 

산성 도금욕은 Wetter 로 비극성의 옥틸페놀 (Octylpenol), 노닐 페놀 EO (Nonyl Phenol EO) 등의 축합물이 사용된다. Carrier 로 크레졸, 나프톨 설폰산 등이 사용되며 Brightenet 로는 OCB, BAR 등이 사용된다.

 

주광택제

 

수정 주석도금  첨가제의 역할

 

산화 억제

입자 크기와 거칠기를 감소시킨다.

  • 벤잘아세톤 ⌬-CH = CHCOCH3
  • C18H37N (CH2CH2O)4 H2

 

균일한 광택과 레벨링

첨가제 농도가 증가함에 따라 입자 미세화 효과를 유도하며 주석 이온의 감소를 억제한다.

  • 벤조페논 ⌬-CO = C6H5
  • 벤잘아세톤 ⌬-CH = CHCOCH3
  • C18H37N CH2CH2OH2
  • C18H37N (CH2CH2O)4 H2
  • C18H37N (CH2CH2O)10 H

 

입자 크기 및 구조를 개선

부드러운 광택 전착을 위해 전착에 영향을 주며 전극 표면에 첨가제가 흡착된다.

  • Igepal CA 520 / DM 970
  • Triton X-100
  • Polyethylene glycol (PEG)
  • Polypropylene glycol (PPG)
  • Phenolphthalein

 

주석 과전압 변경

  • Ethoxylated α-naphthol sulfonic acid (ENSA)

 

친수성 첨가제

전류 밀도 확산

  • Benzaldehyde
  • Acetophenone
  • 4-methyl 2-pentone

 

알데히드 유형

전하 이동을 좋게하고 방해물질을 알코올로 환원

  • Formaldehyde
  • Propionaldehyde
  • Benzaldehyde

 

반광택 표면

전착중 첨가제 흡착 및 탈착에 영향

  • Syntanol
  • Formaldehyde
  • Benzyl alcohol

 

피복성 개선

  • Gelatin

 

피크 전위 이동

  • Triton X-100
  • Phenyl-2-butenalimine
  • Formaldehyde

 

산화방지제

  • Sodium sulphite(s)
    (2Na2SO3 + O2 = 2Na2SO4) 〔7.9〕
  • Hydrazine(l)
    (N2H4 + O2 = 2H2O + N2) 〔1.0〕
  • Carbohydrazide(l)
    (H6N4CO + 2O2 = CO2 +2N2 + 3H2O) 〔1.4〕
  • Methylethylketoxime(l)
    (H2C4=N-OH)CH2CH3 + O2 = 2H3C(C=O)CH3CH3 + N2O + H2O) 〔5.4〕
  • Hydroquinone(s)
    (2C6H4(OH)2 + 2O2 = 2C6H4O2 + 2H2O) 〔6.9〕
  • Diethylhydroxylamine(l)
    (4(CH5CH2)2NOH + 9O2 = 8CH3COOH + 2N2 + 14H2O) 〔1.2〕

 

수정 참고

 

주석의 전착에 있어서 개발의 검토, Surface & Coatings Technology, Dec 2015,

주석 광택제 조성 (KW)