1. 수세

2. 양극 에칭

농황산 (85%):인산 = 1:1 사용
온도 21~26 ℃
전류밀도 1.8~9 A/dm²

시간 2~3 분간

3. 수세

4. 저수축성 크롬도금

250 g/l 무수크롬산
2.5 g/l 황산
전류밀도 75~100 A/dm²

온도 85 ℃

5. 수세

6 염산 (38 %)

50 % 용액에 에칭

7. 전염화물욕으로 니켈스트라이크 도금

전류밀도 18~54 A/dm²

시간 1~3 분간

8. 니켈도금

1. 전해탈지

10 % 가성소다

25 V 교류전해

시간 20 초

2. 양극처리

70 % 황산

20~30 ℃

10~30 A/dm² 30초

3. 알칼리 침지ㆍ전해 탈지

4. 산 침지

10 % 황산

5. 크롬도금

50 ℃ 이상
15 A/dm²
시간 60 초

6. 니켈스트라이크

250 g/l 염화니켈
100 ㎖/l 농염산
상온
5 A/dm²

7. 전기 니켈도금

• 각 공정 사이의 수세 공정은 표기 안함

1. 전해에칭

10 mass % CrO₃
10 Vol % HNO₃ (71 %)
전류밀도 15 A/dm²

25 ℃ 1 분간

2. 수세

3. 양극산화

25 Vol % 아민트리메칠렌 인산
전류밀도 15 A/dm²
25 ℃ 4분간

• 불투명한 회색막이 될때까지

4. 수세

5. 1)의 에칭액에 회색막이 제거될때까지 교반

6. 수세

7. 촉매화

무전해니켈 도금욕에 약 1분간 전해
(5V의 직류를 스텐리스 탱크와 소지간 10초 정도)로 촉매화

8. 두께용 무전해 니켈도금