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무전해코발트도금-
Qstation
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수정 무전해 코발트 도금
^ Electorless Cobalt Alloy Plating
무전해 코발트도금|1|
자성 도금용으로 전자산업의 Memory Disk 와 Storage Device에 사용
30 g/l Cobalt Chloride
20 g/l Sodium hypophosphite
35 g/l Sodium Citrate
50 g/l Ammonium Chloride
㏗ 9.5
- 온도 95 ℃
무전해 코발트 합금도금
자성막 도금으로 개발되었으며, 코발트-텅스텐-인합금ㆍ코발트-니켈-망간-레늄-인합금 등이 있다.
코발트-철-인합금의 욕조성
0.089 ㏖/l Coblat Sulfate
0.73 ㏖/l Ammonium iron sulfate
0.303 ㏖/l Ammonium Sulfate
0.95 ㏖/l Sodium Citrate
0.377 ㏖/l Sodium Hypophosphite
㏗ 8.1
- 온도 80 ℃
수정 참고
보충자료
- ^ James R. HENRY, Electroless (Autocatalystic) Plating
