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수정 스퍼터링 · Sputtering

 

 

이온 플레이팅과 같이 기기내부를 고진공으로 하고, 타켓에 수백~수천 V 의 고압을 가하고, 가스를 사용하여 플라즈마를 발생시키면, 타겟의 원자와 반응하여 막을 형성한다.

 

이온 플레이팅과 다른 점은, 타겟이 용해되지 않도록 위하여, 증발 온도가 다른 합금이나, 상당히 고불점의 금속을 타겟으로 사용하는 경우도 있다.

 

 

수정 참고

WIKI 스퍼터링