수정 CVD · Chemical Vapor Deposite

CVD 는 가스상의 Precursor 의 성분을 반응로에 장입시켜 고체의 기지에서 고체와 화학반응을 일어나게 하여 증착시키는 방법으로, (이때 불균일 가스ㆍ고체 반응이 코팅을 일어나게 하는 과정) 증착반응은 소재의 가열에 의해서 발생하고 유지되며, 일반적으로 고온에서 이루어진다.

저온에서 기화한 휘발성 금속염과 고온의 가열된 피도금체가 접촉으로 고온분해, 고온반응에 의해, 글로우 방전분해, 또는 레이저 등의 광에너지를 조사시켜서 저온에서 물체 표면에 금속 또는 금속 화합물 층을 석출시키는 방법을 말한다.

• 도금하고자 하는 재료를 가스화 할 수 있어야 하며, 도금할 재료 표면과 적당한 화학작용이 있어야 하므로, 적용범위가 한정된다.
• 표면과 화학결합을 한 도금 피막이므로 밀착성은 좋다. 복잡한 형태도 균일도금이 가능
• 소재는 고온으로 가열되어야 할 필요가 있으므로, 가열할 수 없는 물체는 적용할 수 없다. (처리온도가 1000 ℃ 인 높은 온도)

수정 참고

• 건식도금
• WIKI 화학기상증착 (CVD)