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[ 도금기술노트 ] 습식도금과 표면처리 연구노트 / Wet Plating Data Note

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글리옥실산욕

조회 수 2421 ⋅ 화양별곡 마지막수정 2024.09.09
글리옥실산욕

수정 글리옥실산 무전해구리 도금욕

^ Glyoxalic Acid Electroless Copper Bath

 

글리옥실산은 포르말린 유도체로 포르말린 취가 없으며 (작업환경개선) 석출속도와 안정성 피막물성 등은 검토가 필요하다

 

글리옥실산의 반응(1)은 포르말린 반응(2)과 유사하다

Cu2+ + 2CHOCOOH + 4OH → Cu0 +2C2O42- + 2H2O + H2…1)

Cu2+ + 2CHO + 4OH- → Cu0 + 2COO- + 2H2O + H2 …2)

  • 석출속도는 글리옥실산 0.05 mol 일때 약 3 um/1hr, 0.2 mol 일때 약 4 um/1hr
  • 고온 고알칼리욕에서 글리옥실산은 쉽게 불균화반응을 만들어 카니차로 반응이 일어난다.

2CHOCOOH + 2OH- → C2O42- + HOCH2COOH + H2O

수산이온과 글리콜산을 만든다.

 

장시간 사용하면 수산이 침전하여 백색 침전물이 발생한다. |1|

 

 
도금욕의 기본 조성
 
환원제 농도의 영향 (A.R.10)

 

 

수정 참고

글리옥실산욕 |1|

WIKI 글리옥실산

USPatent 4,617,205 |3|

 

 

보충자료
  1. a, b 표면기술 42권4호
  2. a, b Formaldehyde-free autocatalytic Electroless Copper Plating, OMI International, 1986