로그인

검색

1. 습식도금기술과 관련된 기술을 정리한 노트로, 책을 보듯 그대로 읽으면서 링크를 클릭하면 됩니다.
2. 노트의 자료와 데이타는 실험과 연구 목적으로 이용하여 주십시요. 자료에 대한 어떠한 보증도 없습니다.
3. 잘못된 정보 또는 수정 항목을 알려주시면 POINT를 드립니다.

 
마크 표기 안내

[ 도금기술노트 ] 습식도금과 표면처리 연구노트 / Wet Plating Data Note

처음으로
문서 목록 ⋅ 제목 검색

글리옥실산욕

조회 수 2421 ⋅ 화양별곡 마지막수정 2024.09.09
글리옥실산욕
  • 무전해 구리도금욕 조성
    박막용 무전해 구리도금욕은 촉매핵 상의 구리 피복성으로, 두께용은 구리 소재위의 석출속도나 피막 물성에 적당한 성분으로 구성되어 있다. 여기서 각 성분의 ...

수정 글리옥실산 무전해구리 도금욕

^ Glyoxalic Acid Electroless Copper Bath

 

글리옥실산은 포르말린 유도체로 포르말린 취가 없으며 (작업환경개선) 석출속도와 안정성 피막물성 등은 검토가 필요하다

 

글리옥실산의 반응(1)은 포르말린 반응(2)과 유사하다

Cu2+ + 2CHOCOOH + 4OH → Cu0 +2C2O42- + 2H2O + H2…1)

Cu2+ + 2CHO + 4OH- → Cu0 + 2COO- + 2H2O + H2 …2)

  • 석출속도는 글리옥실산 0.05 mol 일때 약 3 um/1hr, 0.2 mol 일때 약 4 um/1hr
  • 고온 고알칼리욕에서 글리옥실산은 쉽게 불균화반응을 만들어 카니차로 반응이 일어난다.

2CHOCOOH + 2OH- → C2O42- + HOCH2COOH + H2O

수산이온과 글리콜산을 만든다.

 

장시간 사용하면 수산이 침전하여 백색 침전물이 발생한다. |1|

 

 
도금욕의 기본 조성
 
환원제 농도의 영향 (A.R.10)

 

 

수정 참고

글리옥실산욕 |1|

WIKI 글리옥실산

USPatent 4,617,205 |3|

 

 

보충자료
  1. a, b 표면기술 42권4호
  2. a, b Formaldehyde-free autocatalytic Electroless Copper Plating, OMI International, 1986