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[ 도금기술노트 ] 습식도금과 표면처리 연구노트 / Wet Plating Data Note

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전해탈지제

조회 수 9234 ⋅ 화양별곡 마지막수정 2024.09.09
전해탈지제
  • 도금 광택제 만들기
    도금 첨가제와 광택제 제조 어렵게 생각하지 마세요.. 누구든 쉽게 연구개발 할수 있도록 도와드립니다. 도금 약품 제조와 관련된 일 이라면 항시 Plating.kr을 ...

수정 전해탈지제

^ Electrolytic Cleaning

 

 

수정 전해탈지제의 기본 구성

  • 전기 전도성 부여제 : 시안화소다, 가성소다 또는 이들의 혼합물
  • 탈청제 / 금속 이온 봉쇄제 : 시안화소다, EDTA, NTA, 구루콘산소다, 소르비톨, 피로인산염, 하이드록시삭산, 에타놀아민 등, 이 종류는 탈 스케일제로도 작용한다.
  • 버프 까스 제거, 스마트 제거제 : 시안화소다, 계면활성제, 키레이트제의 조합
  • 탈지제 : 계면활성제, 규산염 및 이들의 조

 

수정 전해탈지제 조성 예

 

철강소재 |1|

50 % NaOH

4 % Na2CO3

5 % Na tripolyphosphate

40 % Na Metasillicate

1 % Surfactant

  • 80~90 ℃
  • 첨가량 60~120 g/l
  • 시간2~10 분
  • 전류밀도 50~100 A/dm2

 

구리소재 |1|

25 % NaOH

23 % Na2CO3

10 % Na tripolyphosphate

40 % Na Metasillicate

2 % Surfactant

  • 70~80 ℃
  • 사용량 30~60 g/l
  • 시간 1~2 분
  • 전류밀도 20~20 A/dm2

 

황동소재 |1|

10 % NaOH

38 % Na2CO3

10 % Na tripolyphosphate

40 % Na Metasillicate

2 % Surfactant

  • 온도 60~70 ℃
  • 사용량 20~50 g/l
  • 시간 30 초
  • 전류밀도 15~50 A/dm2

 

아연소재 |1|

20 % NaOH

28 % Na2CO3

10 % Na tripolyphosphate

40 % Na Metasillicate

2 % Surfactant

  • 온도 70~80 ℃
  • 사용량 30~450 g/l
  • 시간 0.5~1 분
  • 전류밀도 20~50 A/dm2

 

알루미늄소재 |2|

25 g/L NaOH

18 g/L Na2SiO3ㆍ5H2O

16 g/L NaCO3

9 g/L Na3HPO4

0.5 g/L NaCH3(CH2)11OSO3

  • 온도 75~80 ℃
  • 양극 Stainless steel
  • Voltage 6~7 Volt
  • Agitation Mild/Movement
  • Time 5~7 min

 

수정 참고

알카리욕(제)의 전해 소모량

 

 

보충자료
  1. a, b, c, d Surface Preparation of Metals Prior to Plating', N. V. Mandich 외, AESF SUR/FIN, 2002
  2. ^ Anodizing titanium for space applications, A. k. Sharma, Solid Films (208) 1992