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표면처리기술문헌 : 습식표면처리 연구문헌자료

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티오펜을 사용한 질산욕에 있어서 구리의 부식방지 및 그 유도체
Corrosion inhibition of copper in HNO3 solution using thiophene and its derivatives

등록 2014.08.28 ⋅ 26회 인용

출처 Arabian Journal of Chemistry, Feb 2011, 영어 9 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 산세/탈지 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2022.07.30
전기화학적 주파수변조(EFM)를 사용하여 2M HNO3 용액에서 티오펜(T) 및 일부 유도체[2- 티오펜 카복실산(TC) 및 2- 티에닐에탄올(TE)]가 존재할 때 구리의 부식 거동을 조사 하였다. 전기화학 임피던스분광법 (EIS), 전위역학 분극 및 체중감량 기술, 편광연구에 따르면 이러한 화합물은 혼합형 억제제로 작용한다. EFM...

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