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경질크롬 도금 피막의 질소이온 주입에 의한 표면개질
Surface Modification of Hard Electrodeposited Chromium by Nitrogen Implantation

등록 2008.09.04 ⋅ 62회 인용

출처 금속표면기술, 39권 10호 1988년, 일본어 6 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 크롬/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.01.15
질소이온 주입에 의한 전착크롬의 개질에 관한 기초적인 시험을 하고, 전착 전류밀도 변화에 의한 변동된 경도, 내마모성을 질소이온 주입에 의하여 안정화 향상할수 있으며, 전기화학적 성질도 개선되는 것을 볼수 있다.
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  • 은 Ag 은 보통 시안착화물을 이용하며, 구리나 니켈도금 처럼 산성욕이 별로 없다. 상온으로 질산은을 이용한 도금액의 원리와 방법을 소개하였다.
  • 도금과정에서 물리적 구동력을 더욱 증가시키기 위해 고주파 펄스를 구리도금에 적용하고, 고주파 펄스가 구리도금 효율 및 도금층 물성에 미치는 영향을 규명
  • 전압 ㆍ Voltage 도체에 전기를 흐르게 하려면 마치 물이 높은 곳에서 낮은 곳으로 흐르는 것과 같이 전기적인 높이의 차가 필요하다. 이 전기적인 높이를 전위 (electric p...
  • 이 보고서는 1979년 7월경부터 1980년 2월까지의 기간을 다루며 양극산화 및 침지도금 작업에 대한 논의뿐만 아니라 지난 3년 동안 얻은 결과 요약도 포함한다. 금속소재의 ...