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NiFe2O4 입자에 대한 무전해 Ni-P 도금의 팔라듐 프리 활성화 전처리
Pd-Free Activation Pretreatment for Electroless Ni-P Plating on NiFe2O4 Particles

등록 : 2020.10.15 ⋅ 14회 인용

출처 : Materials, 11호 2018년, 영어 11 쪽

분류 : 연구

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

Junfei Ma1) Zhigang Zhang2) Yihan Liu3) Xiao Zhang4) Hongjie Luo5) Guangchun Yao6)

기타 :

자료 :

분류 :
⋅ ⋅ ⋅
자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.02.08
니켈-산화철 NiFe2O4 입자에 무전해 니켈인합금도금을 위해 팔라듐이 없는 활성화 전처리 공정을 개발하였다. 염화니켈 NiCl2 6H2O 농도, 무전해욕의 pH 및 온도를 포함한 주요 영향요인을 조사하였다. 도금층의 미세구조를 주사 전자현미경을 사용하였다. 보다 균일하고 콤팩트 한 니켈-인 Ni-P 도금층은 사이트 도...

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