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기능수이용 세척기술의 제조방법
Critical Cleaning by Fuctional Water in the Semiconductor/FPD manufacturing Process

등록 : 2009.11.26 ⋅ 26회 인용

출처 : 표면기술, 60권 2호 2009년, 일어 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.09.23
오존수 제조방법과 이의 이용사례, 수소수에 의한 미립자제거, 환원성수(수소수)에 의한 표면변화부식제어방법을 기본으로 하여, 전자디바이스 제조공정용 기능수이용 세척기술에 관하여 해설

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