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Al 건재의 표면처리의 현황과 과제
Actualities and problems of surface finishing for aluminum archtectural products

등록 : 2008.09.02 ⋅ 45회 인용

출처 : 표면기술, 48권 10호 1997년, 일어 5 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

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자료요약
카테고리 : 경금속처리 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2015.08.18
표면처리의 목적은 건재로서의 아름다움과 내구성을 주고, 표면처리기술개발 40주년의 과제로 설명
  • 폴리에테르, 설포프로필 황화물 및 염화물 이온을 포함하는 산성구리 용액의 분극거동은 직접 및 펄스 역전류를 사용하여 연구하였다. 전해질에 침지된 구리막의 나머지 전...
  • 염소이온 · Chloride ion 염화물을 말하며 염소가 전자를 하나 얻었을때 생기는 음이온을 말한다. 도금에서의 염화물 이온은 필요 성분으로 또는 불순물로서 관리가 매우 중...
  • 본 발명의 바람직한 실시 양태에서, 크롬(iii) 이온, 코발트(ii) 이온 및 질산을 포함하는 전환 피막 조성물이 제공된다.
  • 실험실적 전해연마는 조절된 전류밀도의 조건하에서 보다 조절된 전위차의 조건하에서 하는것이 좋다. 즉 분극회로가 직렬회로 보다 훨씬 더 유용하다. 왜냐하면 일정한...
  • 안녕하세요? 염화제이철 43% 사용 중인데요. 스테인레스 계열(304) 에칭시에 에칭속도를 높이고 하프에칭면이 깨끗하게 에칭하려면 어떤 첨가제를 넣어야 하나요?