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무전해도금법을 이용한 철 Fe 기판의 주석 Sn 고함유(>30 at.%) 니켈-주석 Ni-Sn 피막의 제작(1)-Ni-Sn 박막에 있어어서 도금욕조성의 최적화의 시도
Electroless Deposition of Ni-Sn Layers Having High Sn Content(>30 at.%) on Fe Substrate

등록 2021.03.03 ⋅ 36회 인용

출처 표면기술, 71권 9호 202년, 일어 9 쪽

분류 해설

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저자

Nanato MIZUSHINA1) Yousuke HAYASHI2) Kento YOKOI3) Akimasa KAWAI4) Takao GUNJI5) Futoshi MATSUMOTO6)

기타

無電解めっき法を用いたFe基板へのSn高含有（＞30 at.%）Ni-Sn薄膜の作製（1）
～Ni-Sn薄膜におけるめっき浴組成の最適化の試み～

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자료요약
카테고리 : 무전해도금기타 | 글입력 : 화양별곡 | 최종수정일 : 2022.07.18
착화제로 Na3C6H5O7⋅2H2O, Sn 원으로 Na2SnO3⋅3H2O, Ni 원으로 NiSO4⋅6H2O 를 기본 도금욕으로 하고, 환원제로 NaH2PO2⋅H2O 및 C2H7N⋅BH3 을 이용하여 높은 주석 Sn 함유율의 니켈-주석 Ni-Sn 박막을 철 (Fe) 소재상 도금욕 조성의 최적화를 검토했다. 지금까지보고 된 배합 비율과 다른 비율로 Sn 함량이 40 at. % 부근의 N...

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