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도금막의 투과전자현미경 관찰용 시료제작기술
Preparation technique for transmission electron microscopic observation of plated films

등록 2008.09.20 ⋅ 37회 인용

출처 금속표면기술, 33권 7호 1982년, 일본어 8 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 시험분석 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2014.08.10
습식도금법(전기도금및 화학도금)에서 만든 도금막을 투과전현에 따라 직접관찰하기위한 시료제작에 관한 설명
  • Pavco’s line of revolutionary products introduces its patent pending Franklin System. Franklin is a non-indexing bright nickel-plating system with no pyridine de...
  • 착화구조가 석출속도의 영향에 주목하고, 착화제로서 EDTA 및 그 유도체를 이용하여 석출속도를 지배하는 주요인자를 검토
  • 프레시 금도금욕 ^ Flash Gold Plating Bath 매우 낮은 농도의 금 (0.5~1.5 g/l) 을 사용하며, 시안화금칼륨 KAu(CN)2 Dipotassiumㆍdisodium Phosphate 0~7.5 g/l 유리 KCN...
  • 표면처리 작업후 금속부품에 균일한 부식을 방지하는 것은 점점 더 복잡한 법적 요구사항과 에코톡스 문제로 인해 여러가지 잘 시도된 부식억제 활성물질의 금지 또는 사실...
  • 아스콜빈산 무전해금도금욕 Electroless Gold Plating Bath using to Ascorbic Acid 기존 중붕소산 또는 DMAB 등의 환원제를 사용한 도금액은 높은 알칼리도와 시안화물로 ...