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프라즈마화학의 기초
Fundamental aspects of plasma chemistry

등록 2010.01.13 ⋅ 26회 인용

출처 실무표면기술, 34권 10호 1987년, 일어 12 쪽

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2014.08.27
방전으로 생성된 프라즈마 화학반응을 이용한 분야가 프라즈마화학이다. 프라즈마의 기초를 설명하고, 이를 화학반응에 이용한 이점에 관하여 설명
  • 인듐은 19 세기 후반부터 장식용도 및 베어링 용도로 이용되고 왔지만, 최근에는 화합물 반도체 전극, 액정셀 납땜 저융점 합금 등 전기·전자 산업분야에서 이용이 증가하고...
  • 더블펄스법을 이용한 니켈-인 결정질/비정질계 다층막을 만들어, 그 미세구조를 해석하고, 기능발현의 기구에 관하여 전기화학적인 검토를 하였다.
  • L-셀 · (L-Cell) 미국의 L-Chem 에서 고안한 새로운 실험용 도금조로 음극에 미리 결정된 서로 다른 전류 밀도로 금속을 동시에 전착한다. 각 세그먼트에 대한 전류·전압 데...
  • 경질 알루마이트 ^ Hard Alumite ^ Hard Aluminium Oxide Coating 피막경도 Hv 400 이상 피막내부의 경도가 크다 내마모성을 가진 강한 알루미늄 산화피막 ([알루마이트]) ...
  • 광택 황산구리 도금용 첨가제의 기본성분으로서 적당한 폴리옥시에틸렌계 계면활성제, 유황함유 화합물 및 사프라닌계 염료를 선정하고, 계통적인 헐셀시험에 의한 도금의 ...