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무전해 니켈도금욕 조성과 방법
Composition and process for electroless nickel plating

등록 2008.08.11 ⋅ 45회 인용

출처 미국특허, 1969-3420680, 영어 2 쪽

분류 특허

자료 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.08
히드 록시-프로판 설폰산 또는 히드 록시-프로판 설폰산의 용액을 첨가하는 것을 특징으로하는 무전해 니켈도금 조성물.
  • RALU PLATE BA ^ Benzalaceton [BAR|벤잘아세톤] 참고 [아연도금광택제|아연도금 광택제] [주석도금광택제|주석도금 광택제]
  • 무전해니켈 도금속도, 수소발생, 부분음극 및 양극분극 곡선, 무전해니켈 용액의 고정전위에 더 높은 농도의 티오우레아가 미치는 영향을 조사하였다.
  • 음극 스퍼터링 · sputtering 진공속에 아르곤 같은 불활성 가스를 넣고 DC 전류를 통전하면, 음극에서 전자가 튀어 나와 기체분자와 타겟 표면에 충돌한다. 충돌한 분자의 ...
  • 지금까지 다양한 종류의 흑색크롬 도금욕이 문헌에 보고되었다. 그러나, 도금욕 조성은 현재 실제 실무에서 아직 확립되지 않았다. 이들 도금물의 물리적, 화학적 특성과 착...
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