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제어된 pH 에서 프탈산 및 무기 물질의 존재하에 금속염 용액에서 텔루륨의 전착을 조사하였다. 전류 밀도는 0.28~11.34 mA cm -2 범위였다. 음극전류 효율 백분율은 상대적으로 낮았으며 수조에서 텔루리온 이온 농도가 증가함에 따라 증가했다. 도금된 금속의 순도는 99 % 보다 낮았다. X선 회절 분석...
전기도금기타
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ADIOANAL.NUCL.CHEM.,LETTERS · 118권 1호 1987년 · A.S. Fouda ·
H.A. Mostafa
외 ..
참조 14회
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