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표면처리기술문헌 :
습식표면처리 연구문헌자료
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Shotaro ARITA
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권호년
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저자5외/이력
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1717
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응용도금
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산세/탈지
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엣칭/부식
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연마/연삭
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아연/합금
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298
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Pstation Data Box
·
2019
⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...
실리콘 분말에의 무전해치환 석출을 이용한 염기성 용액에서 금 Au 회수
불화수소산을 이용한 고효율로 귀금속을 회수하는 방법으로, 귀금속 용액의 pH 에 착안하였다. 실리콘을 수산화나트륨이나 수산화테트라 메틸암모늄 (TMAH) 등의 염기성 수용액에 침지하여 실리콘의 에칭이 진행되고, 그
이방성
등의 특징을 활용하여 텍스쳐 처리에 의한 태양전지의 반사 방지나 미...
치환도금
·
표면기술 · 69권 5호 2018년 ·
Kenji FUKUDA ·
Shotaro ARITA
외 ..
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