은을 도금 시드로 사용하는 새로운 구리 배선 형성 기술
은시드 도금법에서는 독자적으로 개발한 은 나노 입자를 이용하여 나노 입자의 박막 (은 시드층) 을 도금 시드층으로서 사용한다. 활면 상에 충분한 밀착력을 가지는 거의 비 프로파일의 구리 배선을 형성할 수 있다. 은 시드 도금법을 이용한 구리배선 형성의 특징, 이점에 대해 설명하였다.
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표면기술 · 75권 11호 2024년 · Norimasa FUKAZAWA ·
Rei TAMURA
외 ..
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