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검색글 Yong kang JI 7건
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Pstation Data Box · 2019 ⋅ S.I.HONG ⋅
습식 표면처리 개발을 위한 연구/문헌 자료실 (로그인 필요) 이용을 환영합니다. 검색(로그인 필요)은 아래 내용을 참조하여 주시기 바랍니다. 외뢰어는 기본적으로 한글 표준 발음 (포리머 → 폴리머 / 알카리 → 알칼리)을 사용하였습니다. 많이 사용되는 용어는 일반관 용어 (Nickel → 니켈) / (신주 /...

안정하게 실용성이 있는 고광택 비시안화 은 Ag 도금욕의 개발을 목적으로, 유기 고분자 첨가제를 사용한 비시안화 은도금욕의 분극특성을 검토하고, 아황산을 주성분으로 한 은도금욕의 소성비가 대략 2:1의 티오황산이온의 첨가에 따라 전극반응이 안정화된다.

금은/합금 · 표면기술 · 45권 9호 1994년 · Yongkang JI · Takeo OKI 참조 37회

아황산염 시스템을 사용하는 은 Ag 의 전기도금에서 낮은 pH 에서 더 높은 온도에서 분극이 감소하였다. 음극전류 효율이 감소하고 도금된 결정이 더 컸다. 낮은 pH 와 낮은 온도에서 광택도금 피막이 얻어졌다. 더 높은 pH 와 더 높은 온도에서는 분극이 약간 감소하고 음극전류 효율의 변화가 약간 감...

금은/합금 · 표면기술 · 45권 10호 1994년 · Yong Kang JI · Takeo OKI 참조 41회

비시안화은 Ag 도금의 피막형성, 액중의 착화제와 첨가제의 관계, 첨가제와 첨가제간의 상호작용에 의한 고 광택도금 피막특성에 관한 연구

금은/합금 · 표면기술 · 45권 4호 1994년 · Yongkang JI · Takeo OKI 참조 27회

미립자로서 콜로이드에 가까운 산화란탄을 복합체로하여, 은과 산화란탄과의 전석거동, 도금피막의 표면형태, 경도, 내마모성 및 화학결합형태에 관하여 검토

합금/복합 · 표면기술 · 46권 3호 1995년 · Yong kang JI · Takeo OKI 참조 39회

아황산 Ag 은 착화를 주성분으로한 비시안욕의, 욕조성과 전해조건 등을 변화하여, 도금피막 석출반응의 전기화학적 캐소드분극 곡선측정에 따라, 광택도금 피막의 석출범위, 안정성, 캐소드석출 거동에 관한 보고

합금/복합 · 표면기술 · 46권 1호 1995년 · Yong Kang Ji · Takeo OKI 참조 37회

아민계 유기첨가제, 아연이온, 티오황산을 단독 또는 혼합 첨가한 도금욕에서 만든 은 Ag 도금층의 시료를, 정전류법으로 황산이온이 함유된 알칼리성욕에 있어서 은의 아노드 분극특성, 은의 활성화용액 및 부동태에 관한 검토 [첨가제] 질산은 AgNO3 트리에탄올아민 {Triethanolamine} 니트릴 아세틱...

금은/합금 · 표면기술 · 46권 1호 1995년 · Yong Kang Ji · Takeo OKI 참조 52회

욕의 pH, 온도 및 전류밀도등의 변화, 첨가제, 니트로3삭산, 아연이온 및 티오황산등의 첨가제에 따른 석출물에 관하여 주사형 전자현미경에 의한 표면형태를 관찰하고, 아연이온 및 티오황산을 단독 또는 조합첨가시의 결정구조에 있어서 영향을 조사 1.티오황산의 첨가는 전석물의 표면형태와 구조를 ...

아연/합금 · 표면기술 · 46권 2호 1995년 · Yong Kang Ji · Takeo OKI 참조 35회