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어려운 도금재에 대한 도금기술
Technology to deposit Hard plating materials

등록 2014.06.20 ⋅ 39회 인용

출처 정밀공학회지, 78권 12호 2012년, 일어 4 쪽

분류 해설

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難めっき材に対するめっき技術

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자료요약
카테고리 : 종합자료 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.06.25
팔라듐 사용량을 증가하지 않고 ABS 성형품의 도금석출이 어려운 부품에 도금석출하는 기술을, 저 팔라듐 농도조건에 있어서 도금석출을 가능하게하는 사례를 해설
  • 적어도 하나의 1차 콜로이드 안정화제의 혼합물을 포함하는 신규 콜로이드 촉매 무전해 도금 조성물의 형성을 위한 공정 및 방법으로 무전해(화학적) 도금전에 비전도체의 ...
  • 이 작업은 폴리이미드 소재 플레이트의 표면에 고밀도의 균일한 얇은 구리층을 도금하는 것을 실험하였다. 구리재료로서 황산구리를 사용하는 포름알데하이드 용액 시스템을...
  • 무전해니켈 도금욕 관리 ^ Electroelss Nickel bath Contorl 부반응 NI-P (2.3 ㎛ / 1dm2) 생성에 대하여 약 10 g 의 [올소인산]소다가 생성되며 유리니켈 이온의 농도가 낮...
  • 팔라듐-코발트 합금도금 ^ Palladium-Cobalt Alloy plating 팔라듐-코발트 합금 도금은 팔라듐 도금의 단점을 개선하기 위해 개발되었다. 코발트로 인한 자기 장치 및 자기 ...
  • BASF 독일의 종합 화학약품 생산회사|1| 도금 광택제 조제원료 생산의 기반이 되는 제품명이 대분분 이 회사의 상품명이다.|2| Lutensit 이온성 계면활성제 (산업용 세제 및...