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반도체 장치와 무전해 금 Au 도금 방법, 무전해 금 도금액 대체
Substitutional electroless gold plating solution, electroless gold plating method and semiconductor device

등록 : 2008.09.12 ⋅ 80회 인용

출처 : 미국특허, 2002-6398856, 영어 13 쪽

분류 : 특허

자료 : 웹 조사자료

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자료요약
카테고리 : 금/Au | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2022.02.13
니켈표면에 무전해금 Au 도금을 적용하기 위한 대체 무전해금 Au 도금액으로 직쇄 알킬아민 인 테트라에틸렌 펜타민, 니켈 또는 니켈 합금의 환원제인 히드라진 1수화물, 금 Au 공급원인 시안화금칼륨이 무전해금 도금액에 혼합된다. 니켈 또는 니켈합금의 표면에 박막형 금도금 층을 직접 형성하는 경우에도 열 이력에 의한...
  • 기초 전기 ㆍ Basic Electricity 중요 전기 현상 전류(electric current) 물과 마찬가지로 전하(전기)는 높은 곳에서 낮은 곳으로 이동하며 전기회로를 통하여 전류가 이동...
  • 무전해 주석 Sn 의 합금 도금에 의한 변위 반응을 조사하였다. 새로운욕은 피로 인산 칼륨, 요오드화 칼륨, 금속염 및 티오요소가 포함되었다. 사용 무전해 주석 도금 및 무...
  • 적외선 분광법의 원리 ^ FT-IR (Infrared) 적외선 분광법은 분자에 연속적으로 변화하는 IR (적외선, InfraRed) 을 조사하고 이때 흡수된 빛을 스펙트럼으로 나타내는 분석 ...
  • 배위자로서 피로인산이온 및 글리신을 함유한 알칼리성 용액중에 있어서 니켈이온의 흡수곡선에서 혼합배위자의 조성 및 이들의 착체반응의 평위정수의 결정에 관한 실험