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검색글 Akira FUJISHIMA 1건
산화아연 박막을 중간층으로 이용한 새로운 무전해 도금법
New electroelss plating method using ZnO film as an intermediate layer

등록 2010.01.25 ⋅ 34회 인용

출처 표면기술, 45권 5호 1994년, 일어 5 쪽

분류 연구

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자료요약
카테고리 : 도금자료기타 | 글입력 : goldbug | 최종수정일 : 2020.11.16
새로운 아연도금법을 중심으로하여 미세가공가능한 금속화 기술을 설명
  • 전기도금용 주석광택제는 매우 넓은 전류밀도 범위에서 균일한 도금을 생성하기 위한 다양한 트리알킬 벤즈알데하이드를 포함한다.
  • 유리질 탄소와 구리소재 모두에서 약산성 황산염-글루콘산욕에서 주석-코발트 합금의 전착욕은 서로 다른 [Sn (II)]/[Co(II)]1/10 및 1/2 비율을 연구하엿다. 전기화학적 박...
  • 최대 2~3 Tesla의 포화 자속밀도를 갖는 코발트-니켈-철 CoNiFe 삼원 합금피막은 0~10 g/L 의 설포렌을 사용한 샘플 도금의 경우 약 40~62 wt % Fe 및 3~4 wt % Ni의 조성범...
  • 니켈도금의 종류 및 도금두께를 변화시칸 도금재의, 표면광택과 와이어 본딩성의 관계를 조사하고, 도금의 종류, 두께를 같이하여, 표면광택을 기계연마로 변화한 도금의 와...
  • HEEF욕 ^ High Efficiency Etch Free (HEEF) 고속 경질크롬 도금약품의 상표명으로 목적에 따라 여러 종류의 약품이 있다.|1| HEEF HMC|2| 고경도 저마찰 내마모성의 미세균...