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무전해 Ni-P 도금막의 노듈의 발생원인
Origins of Sodules in electroless Nickel-Phosphorus Deposition

등록 2010.01.27 ⋅ 39회 인용

출처 표면기술, 47권 4호 1996년, 일어 7 쪽

분류 연구

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저자

기타

無電解Ni-Pめっき膜のノジュールの発生要因

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자료요약
카테고리 : 니켈/Ni | 글입력 : GoldBuG | 최종수정일 : 2020.12.15
공업적으로 넓게 이용되고 있는 무전해도금막의 표면에 발생하는 노쥴에 관하여, 소재의 전처리 조건 및 도금 조건과의 관계에 관하여 검토
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  • 와트욕중의 붕산을 대체할 물질의 검토로, 헐셀시험 pH 측정및 현미경 단면조직 관찰등에 따라 와트욕중의 붕산 역할을 하는 수종류의 pH 완충물질의 붕산 대체물질로서 가...
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