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충전 전류 보상 D.C. 폴라로그래피를 사용한 설파민산 니켈욕의 분석
Analysis of Nickel Sulphamate Bath Using Charging Current Compensated D.C. Polarography

등록 : 2008.12.22 ⋅ 28회 인용

출처 : NA, Aug 1987, 영어 15 쪽

분류 : 해설

자료 : 있음(다운로드불가)

저자 :

기타 :

National Aeronautical Laboratory

자료 :

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분류 :
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자료요약
카테고리 : 니켈/합금 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2021.12.19
설파민산니켈욕은 주로 낮은 내부응력과 높은 도금속도가 요구되는 산업용도금 및 전주 응용 분야에 사용된다. 니켈도금욕에 구리, 철, 납, 아연, 카드뮴 등과 같은 금속불순물이 존재하면 도금의 물리적 및 화학적 특성에 영향을 미치기 때문에 유해하다.
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  • 다양한 탈지 기술의 탈지 메커니즘, 탈지 방법, 일반적인 공정 및 탈 지율 테스트 방법을 검토하였다. 다른 프로세스와 메커니즘에 따라 환경 보호 탈지 기술의 현재 상황과...