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Makoto SEKINE 1건
Photomask를 이용한 electroetching의 부식거동
Recent advance in dry etching technology
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자료요약
카테고리 : 엣칭/부식 | 글입력 : 티타늄 | 최종수정일 : 2015.01.28
에칭후 노출된 면적의 에칭양을 중량 변화로부터 조사하여 에칭속도로 하였으며, SEM을 이용하여 에칭 된 Groove 표면을 관찰 하였다
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HEDP를 배위제로 사용하고 ZNP를 첨가제로 사용하는 광택 아연-니켈 Zn-Ni 합금공정의 전기도금을 연구하였다. Ni 함량에 대한 배위제, 염화물 함량, [Zn 2+ ]/[Ni 2+ ], 음...
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폐액으로부터 산화구리를 회수하는 공정중 반응온도를 조절하여 생성물의 입자크기와 형상을 제어하고, 40도 미만에서 회수된 산화구리의 입자가 침상이었으며, 40도 이상에...
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도금의 경도에 관계하는 내마모성과 취약성 및 도금된 금속의 전도성과 열처리에 대해 설명하였다
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에폭시 수지판에 무전해구리도금을 한뒤, 시료를 공기중 또는 증류수중에 보관하여 레이저조사를 함에 따라, 구리 석출층의 피괴 거동을 검토
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프린트배선판의 제조법은 도금방법과 에칭레지스터의 형성방법등 각종의 방법이 있다. 절연피복 와이어를 이용한 멀티와이어법을 포함하여, 그 제조방법과 공정에 관하여 설명